是不是下盘之后再检测，原来的低光圈变成了高光圈？
光圈变化一个是和温度有关系，我估计你们的 工作场所应该是恒温恒湿的，但是下盘清洗的时候不要用温差太大的溶液，还有就是经常要用标准样板检测你们的干涉仪，光圈变化除了和温度有关系以外还和光胶手法有很大的关系，一般情况下光胶都喜欢低光圈，因为高光圈不太容易光胶，光胶是靠分子间力自动结合上的，千万不要靠蛮力强压，有时候强压后涂上保护漆也可以勉强磨砂、抛光，但是抛光完成后一旦下盘，你原来的低光圈就会变成高光圈，我从08年开始就已经不做光学行业了，一直从事生产管理工作，有些光学概念已经记不太清楚了，不过有什么问题可以直接给我发邮件，能帮你的尽量帮你18701366229@163.com
干涉仪看成盘光圈如果是低一个圈，那么下盘后单个零件光圈高是正常的，因为他下盘是单个零件的光圈，面积小了很多，你可以在下盘时整盘的光圈再抛低一些，
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