XRF镀层测厚仪的原理是什么?

2025-05-21 07:52:09
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XRF镀层测厚仪是一种基于X射线荧光原理的涂层厚度测量仪器。其基本原理如下:
X射线发射:XRF镀层测厚仪内置的X射线源发射X射线,X射线穿过待测涂层并作用于样品下方的探测器。
X射线荧光反应:样品表面的涂层对X射线产生荧光反应,释放出特征X射线,特征X射线能量与涂层材料相关。
特征X射线检测:探测器接收到特征X射线,并将其转换为电信号,通过电路传输至仪器内部。
涂层厚度计算:仪器根据特征X射线的能量和强度,通过预定的算法和标定曲线,计算出涂层的厚度。
XRF镀层测厚仪利用X射线荧光原理,能够实现高精度的涂层厚度测量,且适用于多种材料类型和涂层体系。其优势包括非破坏性、快速测量、高精度、无需对样品进行特殊处理等。但需要注意的是,XRF镀层测厚仪的测量结果可能受样品表面平整度、涂层材料性质等因素影响,因此在实际应用中需要进行适当的样品准备和测量条件设置。